Article Dans Une Revue
Journal of Crystal Growth
Année : 2009
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https://hal.science/hal-00473732
Soumis le : vendredi 16 avril 2010-11:23:21
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00473732 , version 1
- DOI : 10.1016/j.jcrysgro.2009.05.025
Citer
L.H. Yang, G.S. Wang, C.L. Mao, Y.Y. Zhang, R.H. Liang, et al.. Orientation control of LaNiO3 thin films by RF magnetron sputtering with different oxygen partial pressure. Journal of Crystal Growth, 2009, 311, pp.4241-4246. ⟨10.1016/j.jcrysgro.2009.05.025⟩. ⟨hal-00473732⟩
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