Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2008
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00466362
Soumis le : mardi 23 mars 2010-15:23:44
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:46
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00466362 , version 1
Citer
L.L. Chapelon, H. Chaabouni, G. Imbert, P. Brun, M. Mellier, et al.. Dense SiOC cap for damage-less ultra low k integration with direct CMP in C45 architecture and beyond. Microelectronic Engineering, 2008, pp.85 Issue: 10 (2008) 2098-2101. ⟨hal-00466362⟩
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