Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2008
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00466188
Soumis le : mardi 23 mars 2010-08:27:36
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:41:43
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00466188 , version 1
Citer
A. Zenasni, V. Jousseaume, O. Gourhant, L. Favennec, P. Maury. Porosity generation using hydrogen plasma assisted thermal curing for ultra low k material. Microelectronic Engineering, 2008, pp.2102-2104. ⟨hal-00466188⟩
44
Consultations
0
Téléchargements