Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
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https://hal.science/hal-00461955
Soumis le : lundi 8 mars 2010-08:45:06
Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-18:59:59
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00461955 , version 1
Citer
Maxime Darnon, T. Chevolleau, N. Posseme, T. David, L. Vallier, et al.. Comparison Between Metallic and Inorganic Hard Masks Used for Advanced Porous Low-k Patterning. 15th International Colloquium on Plasma Processes, 2005, Autrans, France. ⟨hal-00461955⟩
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