Hydrogen Silsesquioxane-Based Hybrid Electron Beam And Optical Lithography For High Density CMOS Prototyping - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Hydrogen Silsesquioxane-Based Hybrid Electron Beam And Optical Lithography For High Density CMOS Prototyping

M. Guillorn
  • Fonction : Auteur
J. Chang
N. Fuller
  • Fonction : Auteur
J. Patel
  • Fonction : Auteur
J. Ott
  • Fonction : Auteur
J. Newbury
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A. Pyzyna
  • Fonction : Auteur
E. Joseph
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S. Engelmann
  • Fonction : Auteur
D. Klaus
  • Fonction : Auteur
J. Bucchignano
  • Fonction : Auteur
E. Kratschmer
  • Fonction : Auteur
W. Graham
  • Fonction : Auteur
B. To
  • Fonction : Auteur
Y. Zhang
  • Fonction : Auteur
R. Viswanathan
  • Fonction : Auteur
W. Haensch
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00461591 , version 1 (05-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00461591 , version 1

Citer

M. Guillorn, J. Chang, N. Fuller, J. Patel, J. Ott, et al.. Hydrogen Silsesquioxane-Based Hybrid Electron Beam And Optical Lithography For High Density CMOS Prototyping. 53rd Iinternational Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology & Nanoffabrication, 2009, United States. ⟨hal-00461591⟩
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