Hydrogen Silsesquioxane-Based Hybrid Electron Beam And Optical Lithography For High Density CMOS Prototyping
M. Guillorn
,
J. Chang
,
N. Fuller
,
J. Patel
,
J. Ott
,
J. Newbury
,
Maxime Darnon
(1)
,
A. Pyzyna
,
E. Joseph
,
S. Engelmann
,
D. Klaus
,
J. Bucchignano
,
E. Kratschmer
,
W. Graham
,
B. To
,
Y. Zhang
,
R. Viswanathan
,
W. Haensch
M. Guillorn
- Fonction : Auteur
J. Chang
- Fonction : Auteur
- PersonId : 755379
- ORCID : 0000-0002-4655-1516
- IdRef : 244375380
N. Fuller
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J. Patel
- Fonction : Auteur
J. Ott
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J. Newbury
- Fonction : Auteur
Maxime Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
A. Pyzyna
- Fonction : Auteur
E. Joseph
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S. Engelmann
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D. Klaus
- Fonction : Auteur
J. Bucchignano
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E. Kratschmer
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W. Graham
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B. To
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Y. Zhang
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R. Viswanathan
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W. Haensch
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