Inductively-Coupled Pulsed Plasmas in the Presence of Synchronous Pulsed Substrate Bias for Advanced Gate Etching
S. Banna
,
A. Agarwal
,
V. Todorow
,
S. Rauf
,
K. Ramaswamy
,
P. Stout
,
D. Lymberopoulos
,
K. Collins
,
K. Tokashiki
,
J.-Y. Lee
,
J. Yoon
,
K. Shin
,
O. Joubert
(1)
,
G. Cunge
(1)
,
E. Pargon
(1)
,
L. Vallier
(1)
,
Maxime Darnon
(1)
,
C. Petit-Etienne
(1)
S. Banna
- Fonction : Auteur
A. Agarwal
- Fonction : Auteur
V. Todorow
- Fonction : Auteur
S. Rauf
- Fonction : Auteur
K. Ramaswamy
- Fonction : Auteur
P. Stout
- Fonction : Auteur
D. Lymberopoulos
- Fonction : Auteur
K. Collins
- Fonction : Auteur
- PersonId : 758067
- ORCID : 0000-0001-6588-9574
K. Tokashiki
- Fonction : Auteur
J.-Y. Lee
- Fonction : Auteur
J. Yoon
- Fonction : Auteur
K. Shin
- Fonction : Auteur
E. Pargon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 180469
- IdHAL : erwine-pargon
- ORCID : 0000-0002-6337-9180
Maxime Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
C. Petit-Etienne
- Fonction : Auteur
- PersonId : 745766
- IdHAL : camille-petit-etienne