Inductively-Coupled Pulsed Plasmas in the Presence of Synchronous Pulsed Substrate Bias for Advanced Gate Etching - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Inductively-Coupled Pulsed Plasmas in the Presence of Synchronous Pulsed Substrate Bias for Advanced Gate Etching

S. Banna
  • Fonction : Auteur
A. Agarwal
  • Fonction : Auteur
V. Todorow
  • Fonction : Auteur
S. Rauf
  • Fonction : Auteur
K. Ramaswamy
  • Fonction : Auteur
P. Stout
  • Fonction : Auteur
D. Lymberopoulos
  • Fonction : Auteur
K. Collins
K. Tokashiki
  • Fonction : Auteur
J.-Y. Lee
  • Fonction : Auteur
J. Yoon
  • Fonction : Auteur
K. Shin
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00461590 , version 1 (05-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00461590 , version 1

Citer

S. Banna, A. Agarwal, V. Todorow, S. Rauf, K. Ramaswamy, et al.. Inductively-Coupled Pulsed Plasmas in the Presence of Synchronous Pulsed Substrate Bias for Advanced Gate Etching. AVS 56th international symposium, Nov 2009, San José, United States. ⟨hal-00461590⟩
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