Reaction mechanisms in industrial silicon plasma etch reactors - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00460996 , version 1 (03-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00460996 , version 1

Citer

G. Cunge, D. Vempaire, N. Sadeghi, R. Ramos, M. Touzeau, et al.. Reaction mechanisms in industrial silicon plasma etch reactors. XXIX International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG), Jul 2009, Cancun, Mexico. ⟨hal-00460996⟩
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