Communication Dans Un Congrès
Année : 2009
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00460996
Soumis le : mercredi 3 mars 2010-10:30:00
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00460996 , version 1
Citer
G. Cunge, D. Vempaire, N. Sadeghi, R. Ramos, M. Touzeau, et al.. Reaction mechanisms in industrial silicon plasma etch reactors. XXIX International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG), Jul 2009, Cancun, Mexico. ⟨hal-00460996⟩
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