Article Dans Une Revue
ECS Transactions
Année : 2009
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https://hal.science/hal-00457445
Soumis le : mercredi 17 février 2010-12:53:46
Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-18:51:38
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00457445 , version 1
Citer
A. Claudel, E. Blanquet, D. Chaussende, Roland Martin, D. Pique, et al.. High-speed growth and characterization of polycrystalline AlN layers by High temperature Chemical Vapor Deposition (HTCVD).. ECS Transactions, 2009, 25 (8), pp.323-326. ⟨hal-00457445⟩
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