Communication Dans Un Congrès
Année : 2009
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00455227
Soumis le : mardi 9 février 2010-17:51:23
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:46
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00455227 , version 1
Citer
R. Sood, C. Alleaume, C. Iojoiu, D. Boutry, A. Beaurain, et al.. Fluorinated mold treatment regeneration and low-reactivity resists in UV-nanoimprint lithography. Nanoimprint and Nanoprint Technology conference - NNT 2009, nov. 2009, San Jose (USA), 2009, san jose, United States. ⟨hal-00455227⟩
55
Consultations
0
Téléchargements