Study of microcrystalline silicon Thin Films prepared by PECVD with the characterization of metal-semiconductor contact - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Study of microcrystalline silicon Thin Films prepared by PECVD with the characterization of metal-semiconductor contact

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00444339 , version 1 (06-01-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00444339 , version 1

Citer

H. Ayed, L. Yandjah, L. Bechiri, M. Benabdeslem, N. Benslim, et al.. Study of microcrystalline silicon Thin Films prepared by PECVD with the characterization of metal-semiconductor contact. Séminaire National sur les Matériaux et leurs Applications (SENAMAP'09), Dec 2009, Alger, Algeria. ⟨hal-00444339⟩
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