Communication Dans Un Congrès Année : 2007
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00444198 , version 1 (06-01-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00444198 , version 1

Citer

Remi Dussart, Laurianne E. Pichon, Corinne Y. Duluard, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, et al.. SiOxFy film deposited by SiF4/O2 plasma on silicon at low temperature. 16th International Colloquium on Plasma Processes, Jun 2007, Toulouse, France. ⟨hal-00444198⟩
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