Nitrure de silicium et silicium microcristallin déposés par PECVD pour les transistors basse température sur substrat souple - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00439478 , version 1 (07-12-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00439478 , version 1

Citer

Khaled Belarbi, Nathalie . Coulon, Claude Simon, Tayeb Mohammed-Brahim. Nitrure de silicium et silicium microcristallin déposés par PECVD pour les transistors basse température sur substrat souple. Journées Nationales du Réseau Doctoral de Microélectronique, May 2008, Bordeaux, France. ⟨hal-00439478⟩
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