Low temperature amorphous and nanocrystalline silicon thin film transistors deposited by hot wire cvd on glass substrate - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2006
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00437297 , version 1 (30-11-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00437297 , version 1

Citer

M. Fondorona, D. Soler, J. Escarre, F. Villar, J. Bertomeu, et al.. Low temperature amorphous and nanocrystalline silicon thin film transistors deposited by hot wire cvd on glass substrate. Thin Solid Films, 2006, 501, pp.303-306. ⟨hal-00437297⟩
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