Evidence for the presence of U-Mo-Al ternary compounds in the UMo/Al interaction layer grown by thermal annealing: a coupled µ-XRD/µ-XAS study
H. Palancher
(1)
,
P. Martin
(1)
,
V. Nassif
(2)
,
R. Tucoulou
(3)
,
O. Proux
(4)
,
Jean-Louis Hazemann
(5)
,
O. Tougait
(6)
,
E. Lahéra
(4)
,
F. Mazaudier
(1)
,
C. Valot
(1)
,
S. Dubois
(1)
1
CEA -
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives
2 DRFMC - Département de Recherche Fondamentale sur la Matière Condensée
3 RSRM - Rayonnement Synchrotron et Recherche Medicale
4 LGIT - Laboratoire de Géophysique Interne et Tectonophysique
5 NEEL - MRS - Matériaux, Rayonnements, Structure
6 ISCR - Institut des Sciences Chimiques de Rennes
2 DRFMC - Département de Recherche Fondamentale sur la Matière Condensée
3 RSRM - Rayonnement Synchrotron et Recherche Medicale
4 LGIT - Laboratoire de Géophysique Interne et Tectonophysique
5 NEEL - MRS - Matériaux, Rayonnements, Structure
6 ISCR - Institut des Sciences Chimiques de Rennes
P. Martin
- Fonction : Auteur
- PersonId : 176746
- IdHAL : philippe-martin
- ORCID : 0000-0003-2743-2068
- IdRef : 257723617
V. Nassif
- Fonction : Auteur
- PersonId : 21270
- IdHAL : vivian-nassif
- IdRef : 223639613
Jean-Louis Hazemann
- Fonction : Auteur
- PersonId : 172032
- IdHAL : jean-louis-hazemann
- ORCID : 0000-0002-3717-2151
- IdRef : 078043174
C. Valot
- Fonction : Auteur
- PersonId : 173531
- IdHAL : carole-valot
- ORCID : 0000-0003-0402-8812