Subnanometric Si film reactive diffusion on Ni - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 2009

Subnanometric Si film reactive diffusion on Ni

A. Portavoce
  • Fonction : Auteur
B. Lalmi
  • Fonction : Auteur
G. Tréglia
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
Christophe Girardeaux
Dominique Mangelinck
B. Aufray
  • Fonction : Auteur
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
J. Bernardini
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00413559

Soumis le : vendredi 4 septembre 2009-14:22:04

Dernière modification le : mercredi 24 avril 2024-11:28:54

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Dates et versions

hal-00413559 , version 1 (04-09-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00413559 , version 1

Citer

A. Portavoce, B. Lalmi, G. Tréglia, Christophe Girardeaux, Dominique Mangelinck, et al.. Subnanometric Si film reactive diffusion on Ni. Applied Physics Letters, 2009, 95 (2), pp.023111. ⟨hal-00413559⟩

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