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Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Magnetron reactive sputtering deposition of oxide films for SOFC application,

Domaines

Plasmas
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00410707 , version 1 (24-08-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00410707 , version 1

Citer

Ekaterina Rezugina, Anne-Lise Thomann, Pascal Brault, Vincent Dolique, Yves Tessier. Magnetron reactive sputtering deposition of oxide films for SOFC application,. 17th International Colloquium on PLASMA PROCESSES CIP2009, Jun 2009, Marseille, France. ⟨hal-00410707⟩
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