Thermal stability and in-situ XRD analysis of AlCoCrCuFeNi high entropy alloy thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00409308 , version 1 (06-08-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00409308 , version 1

Citer

Anne-Lise Thomann, Vincent Dolique, Yves Tessier, Pascal Brault, Pascale Gillon, et al.. Thermal stability and in-situ XRD analysis of AlCoCrCuFeNi high entropy alloy thin films. E-MRS Spring Meeting 200ç, Symposium Q, Jun 2009, France. http://www.emrs-strasbourg.com/index.php?option=com_abstract&Itemid=92. ⟨hal-00409308⟩
40 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More