Thermal stability and in-situ XRD analysis of AlCoCrCuFeNi high entropy alloy thin films - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Thermal stability and in-situ XRD analysis of AlCoCrCuFeNi high entropy alloy thin films

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Pascal Brault  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00409308

Soumis le : jeudi 6 août 2009-16:55:23

Dernière modification le : mercredi 7 août 2024-14:59:40

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00409308 , version 1 (06-08-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00409308 , version 1

Citer

Anne-Lise Thomann, Vincent Dolique, Yves Tessier, Pascal Brault, Pascale Gillon, et al.. Thermal stability and in-situ XRD analysis of AlCoCrCuFeNi high entropy alloy thin films. E-MRS Spring Meeting 2009, Symposium Q, Jun 2009, Strasbourg, France. http://www.emrs-strasbourg.com/index.php?option=com_abstract&Itemid=92. ⟨hal-00409308⟩

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