Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00400652
Soumis le : mercredi 1 juillet 2009-13:18:15
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:23
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00400652 , version 1
Citer
L. Babaud, P. Gouraud, O. Joubert, E. Pargon. Impact on wafer to wafer repeatability of cleaning/coating strategies in a 300mm ICP plasma reactor. 55th International AVS Symposium & Topical Conferences, Oct 2008, boston, United States. ⟨hal-00400652⟩
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