Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00400643
Soumis le : mercredi 1 juillet 2009-12:57:12
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00400643 , version 1
Citer
E. Sungauer, X. Mellhaoui, E. Pargon, T. Lill, O. R. Joubert. Analyses of deposition/etching regimes during selective etching of HfO2 on silicon in BCl3 plasmas: Impact of chamber walls. 54th International AVS Symposium & Topical Conferences, 2007, seattle, United States. ⟨hal-00400643⟩
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