Communication Dans Un Congrès
Année : 2006
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https://hal.science/hal-00400477
Soumis le : mardi 30 juin 2009-18:58:02
Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-19:14:00
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00400477 , version 1
Citer
T. Chevolleau, D. Eon, Maxime Darnon, T. David, L. Vallier, et al.. Patterning of narrow SiOCH trenches using the late porogen removal process. AVS, 53rd International AVS Symposium, 2006, san francisco, United States. ⟨hal-00400477⟩
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