Communication Dans Un Congrès Année : 2006
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00400477 , version 1 (30-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00400477 , version 1

Citer

T. Chevolleau, D. Eon, Maxime Darnon, T. David, L. Vallier, et al.. Patterning of narrow SiOCH trenches using the late porogen removal process. AVS, 53rd International AVS Symposium, 2006, san francisco, United States. ⟨hal-00400477⟩
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