Communication Dans Un Congrès
Année : 2006
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00400472
Soumis le : mardi 30 juin 2009-18:53:03
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:40:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00400472 , version 1
Citer
R. Ramos, G. Cunge, O. R. Joubert, M. Orlowski, T. Lill. Understanding the impact of chamber walls during plasma etching: a key to control plasma processes in ULSI. 53rd International AVS Symposium & Topical Conferences, 2006, san francisco, United States. ⟨hal-00400472⟩
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