Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00398952
Soumis le : jeudi 25 juin 2009-11:56:56
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00398952 , version 1
Citer
R. Gras, F. Gaillard, D. Bouchu, P.H. Haumesser, G. Imbert, et al.. Multi levels Air gap Integration using Sacrificial Material Approach for Advanced Cu Interconnects Technologies. ADMETA, Advanced Metallization Asian Session,, 2008, tokyo, Japan. ⟨hal-00398952⟩
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