Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00398871
Soumis le : jeudi 25 juin 2009-09:29:42
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:26
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00398871 , version 1
Citer
Maxime Darnon, T. Chevolleau, N. Posseme, T. David, C. Licitra, et al.. Porous SiOCH Modification by O2, NH3 and CH4 plasmas Used as ashing and Pore sealing Steps. Proceeding of PESM, Plasma Etch and Strip in Microelectronics (Workshop), 2007, leuven, Belgium. ⟨hal-00398871⟩
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