Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00398861
Soumis le : jeudi 25 juin 2009-09:21:15
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00398861 , version 1
Citer
O. Luere, L. Vallier, O. R. Joubert, T. Lill. Surface analyses studies of poly-Si/metal gates etched in SF6/CH2F2 based plasmas. Proceedings of the 29th International Symposium on Dry Process, 2007, tokyo, Japan. ⟨hal-00398861⟩
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