Communication Dans Un Congrès
Année : 2006
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00398859
Soumis le : jeudi 25 juin 2009-09:17:56
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:26
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00398859 , version 1
Citer
O. R. Joubert, A. Le Gouil, R. Ramos, M. Helot, G. Cunge, et al.. Plasma Etching Challenges of New Materials Involved in Gate Stack Patterning for sub 45 nm Technological Nodes. Proceedings of the Electrochemical. Society (209th Meeting), 2006, denver, United States. ⟨hal-00398859⟩
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