A Study of Plasma Treatments Limiting Metal Barrier Diffusion into Porous Low-k Materials - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

A Study of Plasma Treatments Limiting Metal Barrier Diffusion into Porous Low-k Materials

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00398855 , version 1 (25-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00398855 , version 1

Citer

T. David, N. Possémé, T. Chevolleau, Maxime Darnon, O. Louveau, et al.. A Study of Plasma Treatments Limiting Metal Barrier Diffusion into Porous Low-k Materials. Proceeding of ADMETA, Advanced Metallization Asian Session, 2005, tokyo, Japan. ⟨hal-00398855⟩
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