Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
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https://hal.science/hal-00398848
Soumis le : jeudi 25 juin 2009-08:59:50
Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-19:36:51
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00398848 , version 1
Citer
Maxime Darnon, T. Chevolleau, N. Posseme, T. David, L. Vallier, et al.. Comparison between metallic and inorganic hard masks used for advanced porous low k patterning. 15th International Colloquium on Plasma Processes (CIP), 2005, autrans, France. ⟨hal-00398848⟩
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