N and P type top-gate microcrystalline silicon TFTs processed at low temperature (T<200°C) on the same glass substrate - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00398184 , version 1 (24-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00398184 , version 1

Citer

Ismaïl Souleiman, Khalid Kandoussi, Khaled Belarbi, Rabah Cherfi, Abdelkrim Fedala, et al.. N and P type top-gate microcrystalline silicon TFTs processed at low temperature (T<200°C) on the same glass substrate. 23nd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors, Aug 2009, Utrecht, Netherlands. ⟨hal-00398184⟩
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