Impact of direct CMP on porous ULK properties and interconnect propagation performance on a wide frequency bandwidth - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Impact of direct CMP on porous ULK properties and interconnect propagation performance on a wide frequency bandwidth

M. Gallitre
  • Fonction : Auteur
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
S. Gall
  • Fonction : Auteur
A. Farcy
  • Fonction : Auteur
STMicroelectronics
B. Blampey
  • Fonction : Auteur
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
B. Icard
  • Fonction : Auteur
V. Jousseaume
  • Fonction : Auteur
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
M. Guillermet
  • Fonction : Auteur
P. Brun
P. Grosgeaorges
  • Fonction : Auteur
V. Sbrugnera
  • Fonction : Auteur
J. Bustos
  • Fonction : Auteur
C. Bermond
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
CV
T. Lacrevaz
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
B. Fléchet
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
M. Rivoire
  • Fonction : Auteur
P. Ancey
  • Fonction : Auteur

Domaines

Electromagnétisme

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https://hal.science/hal-00397928

Soumis le : mardi 23 juin 2009-16:29:33

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397928 , version 1 (23-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397928 , version 1

Citer

M. Gallitre, S. Gall, A. Farcy, B. Blampey, B. Icard, et al.. Impact of direct CMP on porous ULK properties and interconnect propagation performance on a wide frequency bandwidth. 25th Advanced Metallization Conference, AMC 2008, Sep 2008, -, France. ⟨hal-00397928⟩

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