Communication Dans Un Congrès
Année : 2009
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00397859
Soumis le : mardi 23 juin 2009-14:32:43
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Dates et versions
Licence
Identifiants
- HAL Id : hal-00397859 , version 1
Citer
O. R. Joubert, E. Pargon, T. Chevolleau, G. Cunge, L. Vallier, et al.. Future prospects in plasma etching processes involved in ULSI technology. Micro and Nanoelectronics (ICMNE 2009), 2009, Moscou, Russia. ⟨hal-00397859⟩
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