Future prospects in plasma etching processes involved in ULSI technology - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397859 , version 1 (23-06-2009)

Licence

Paternité

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397859 , version 1

Citer

O. R. Joubert, E. Pargon, T. Chevolleau, G. Cunge, L. Vallier, et al.. Future prospects in plasma etching processes involved in ULSI technology. Micro and Nanoelectronics (ICMNE 2009), 2009, Moscou, Russia. ⟨hal-00397859⟩
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