Challenging and future prospects in plasma etching processes - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397858 , version 1 (23-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397858 , version 1

Citer

O. R. Joubert, E. Pargon, T. Chevolleau, G. Cunge, L. Vallier, et al.. Challenging and future prospects in plasma etching processes. Materials for Advanced Metallization (MAM), 2009, grenoble, France. ⟨hal-00397858⟩
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