Challenges and future prospects in plasma etching - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397853 , version 1 (23-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397853 , version 1

Citer

G. Cunge, E. Pargon, O. R. Joubert, L. Vallier, T. Chevolleau, et al.. Challenges and future prospects in plasma etching. ISPlasma 2009, 2009, Nagoya, United States. ⟨hal-00397853⟩
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