Spectroscopic investigation of plasma etching reactors - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397783 , version 1 (23-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397783 , version 1

Citer

M. Touzeau, R. Ramos, D. Vempaire, G. Cunge, N. Sadeghi. Spectroscopic investigation of plasma etching reactors. VI Workshop em Fisica Molecular e Spectroscopia, 2008, Brazil. ⟨hal-00397783⟩
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