Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00397781
Soumis le : mardi 23 juin 2009-11:19:26
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:47
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00397781 , version 1
Citer
G. Cunge, N. Sadeghi, D. Vempaire, M. Touzeau, R. Ramos. Physical and chemical reactions in chlorine based etching plasmas: influence of plasma-surface interactions. 9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology (APCPST) and 21st Symposium on Plasma Science for Materials, 2008, China. ⟨hal-00397781⟩
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