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Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Gate Stack Patterning: challenges of the future

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397778 , version 1 (23-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397778 , version 1

Citer

O. R. Joubert, E. Pargon, G. Cunge, T. Chevolleau, B. Pelissier, et al.. Gate Stack Patterning: challenges of the future. 1st International Conference on Plasma-Nanotechnology & Science (IC-PLANTS), 2008, nagoya, Japan. ⟨hal-00397778⟩
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