Gate Stack Patterning: challenges of the future - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Gate Stack Patterning: challenges of the future

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00397778

Soumis le : mardi 23 juin 2009-11:15:59

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:05:43

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397778 , version 1 (23-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397778 , version 1

Citer

O. R. Joubert, E. Pargon, G. Cunge, T. Chevolleau, B. Pelissier, et al.. Gate Stack Patterning: challenges of the future. 1st International Conference on Plasma-Nanotechnology & Science (IC-PLANTS), 2008, nagoya, Japan. ⟨hal-00397778⟩

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