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Communication Dans Un Congrès Année : 2008

The challenges in gate stack patterning for the next technological nodes

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397773 , version 1 (23-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397773 , version 1

Citer

E. Pargon, T. Morel, E. Sungauer, A. Bazin, M. Martin, et al.. The challenges in gate stack patterning for the next technological nodes. Gordon research conference, Plasma processing science,, 2008, United States. ⟨hal-00397773⟩
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