Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00397769
Soumis le : mardi 23 juin 2009-11:09:04
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:30:01
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00397769 , version 1
Citer
G. Cunge, N. Sadeghi, R. Ramos, O. R. Joubert, M. Touzeau. Interaction of Cl2 based plasmas with chamber walls in a silicon etching reactor. Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics VII,, 2007, United Kingdom. ⟨hal-00397769⟩
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