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Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Interaction of Cl2 based plasmas with chamber walls in a silicon etching reactor

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397769 , version 1 (23-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397769 , version 1

Citer

G. Cunge, N. Sadeghi, R. Ramos, O. R. Joubert, M. Touzeau. Interaction of Cl2 based plasmas with chamber walls in a silicon etching reactor. Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics VII,, 2007, United Kingdom. ⟨hal-00397769⟩
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