Metal gate stack plasma patterning studies - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2006
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397763 , version 1 (23-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397763 , version 1

Citer

L. Vallier, T. Chevolleau, O. R. Joubert, G. Cunge, A. Le Gouil, et al.. Metal gate stack plasma patterning studies. IEEE International Conference on Plasma Processes (ICOPS 06), 2006, traverse city, United States. ⟨hal-00397763⟩
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