Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2008
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00397103
Soumis le : vendredi 19 juin 2009-15:24:26
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:23:40
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00397103 , version 1
Citer
M. Martin, G. Cunge. Surface roughness generated by plasma etching processes of silicon. Journal of Vacuum Science and Technology, 2008, pp.B 26 (4), (2008), 1281-1288. ⟨hal-00397103⟩
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