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Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2008

Surface roughness generated by plasma etching processes of silicon

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397103 , version 1 (19-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397103 , version 1

Citer

M. Martin, G. Cunge. Surface roughness generated by plasma etching processes of silicon. Journal of Vacuum Science and Technology, 2008, pp.B 26 (4), (2008), 1281-1288. ⟨hal-00397103⟩
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