Article Dans Une Revue
Journal of Applied Physics
Année : 2007
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00397074
Soumis le : vendredi 19 juin 2009-14:42:07
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:10
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00397074 , version 1
Citer
G. Cunge, N. Sadeghi, R. Ramos. Influence of the reactor walls composition on radicals' densities and total pressure in Cl2 inductively coupled plasmas: I. Without silicon etching. Journal of Applied Physics, 2007, pp.102, (2007), 093304. ⟨hal-00397074⟩
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