Etching mechanisms of HfO2, SiO2, and poly-Si substrates in BCl3 plasmas
E. Sungauer
(1)
,
E. Pargon
(1)
,
X. Mellhaoui
,
R. Ramos
(1)
,
G. Cunge
(1)
,
L. Vallier
(1)
,
O. R. Joubert
(1)
,
T. Lill
(2)
E. Pargon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 180469
- IdHAL : erwine-pargon
- ORCID : 0000-0002-6337-9180
X. Mellhaoui
- Fonction : Auteur
R. Ramos
- Fonction : Auteur
- PersonId : 854590
- IdHAL : raphramos
- ORCID : 0000-0003-0627-6959