Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2005
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00397042
Soumis le : vendredi 19 juin 2009-14:09:33
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:42:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00397042 , version 1
Citer
E. Pargon, Maxime Darnon, O. Joubert, T. Chevolleau, L. Vallier, et al.. Towards a controlled patterning of 10 nm silicon gates in high density plasmas. Journal of Vacuum Science and Technology, 2005, B 23, pp.1913-1923. ⟨hal-00397042⟩
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