Chemical-vapour-deposition growth and electrical characterization of intrinsic silicon nanowires - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Science and Engineering Année : 2009

Chemical-vapour-deposition growth and electrical characterization of intrinsic silicon nanowires

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00395832 , version 1 (16-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00395832 , version 1

Citer

B. Salem, F. Dhalluin, T. Baron, H. Jamgotchian, F. Bedu, et al.. Chemical-vapour-deposition growth and electrical characterization of intrinsic silicon nanowires. Materials Science and Engineering, 2009, pp.B 159-160 83-86. ⟨hal-00395832⟩
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