Initial and PBTI-induced traps and charges in Hf-based oxides/TiN stacks - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronics Reliability Année : 2007

Initial and PBTI-induced traps and charges in Hf-based oxides/TiN stacks

G. Reimbold
  • Fonction : Auteur
J. Mitard
  • Fonction : Auteur
X. Garros
  • Fonction : Auteur
Cédric Leroux
  • Fonction : Auteur
F. Martin
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00393386 , version 1 (09-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00393386 , version 1

Citer

G. Reimbold, J. Mitard, X. Garros, Cédric Leroux, G. Ghibaudo, et al.. Initial and PBTI-induced traps and charges in Hf-based oxides/TiN stacks. Microelectronics Reliability, 2007, 47 (4-5), pp.660-664. ⟨hal-00393386⟩
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