Impact of Progressive Soft Oxide Breakdown on MOS Parameters: Experiment and Modelling. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00392468 , version 1 (08-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00392468 , version 1

Citer

L. Gerrer, G. Ribes, G. Ghibaudo, J. Jomaah. Impact of Progressive Soft Oxide Breakdown on MOS Parameters: Experiment and Modelling.. 15th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, Berlin, Germany, Jun 2008, Berlin, Germany. ⟨hal-00392468⟩
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