Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
Yannick Champion : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00386237
Soumis le : mercredi 20 mai 2009-17:25:32
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00386237 , version 1
Citer
M. Vilmay, Daniel Roy, F. Volpi, J.M. Chaix. Evolution of the lifetime model based on the Poole-Frenkel conduction for the SiOCH low-k dielectric used for the sub 65nm technologies. Advanced Metallization Conference (AMC) 2008, 2008, United States. ⟨hal-00386237⟩
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