Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2008
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https://hal.science/hal-00385675
Soumis le : mardi 19 mai 2009-18:26:36
Dernière modification le : samedi 27 septembre 2025-19:03:08
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00385675 , version 1
Citer
Maxime Darnon, T. Chevolleau, T. David, N. Posseme, J. Ducote, et al.. Modifications of dielectric films induced by plasma ashing processes: Hybrid versus porous SiOCH materials. Journal of Vacuum Science and Technology, 2008, pp.B 26, 1964-1970. ⟨hal-00385675⟩
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